薄膜形成剤
PZT液において世界トップレベルの出荷量、量産レベル、高い品質安定性を誇ります。
ゾルゲル液とは？
ゾルゲル液とは金属アルコキシドなどを利用した薄膜形成用の溶液で、主に半導体やMEMS分野で利用されます。
主にSiウェーハ上にスピンコート法で塗布、熱処理することによって、容易に均一な組成・厚さのPZT、BST、SBT、BLT などの強誘電体やLSCOなどの酸化物薄膜を得ることが可能です。
特長
三菱マテリアルのPZT ゾルゲル液は、分解性能が高いため、結晶性の高いPZT膜を安定して得ることが可能です。
また、ゾルゲル液をもちいた薄膜形成においては、スピンコートや熱処理などのアナログ的な成膜条件の影響が大きく、お客様においての成膜プロセスの確立に時間と労力が必要です。その点でも三菱マテリアルは非常に多くの実績があるため、お客様に最適な条件をアドバイスすることが可能です。
薄膜形成用E1液と、新開発のMEMS用厚膜形成用N液
三菱マテリアルのPZT E1液は、長い実績を誇る標準液ですが、最近のMEMS用途では2µm程度の比較的厚いPZT膜が多く求められるようになっています。
従来のE1液では2µmの成膜に20回以上の成膜を繰り返す必要がありましたが、成膜回数の低減要望が増えたことにより、あらたに10回の塗布で2µmのPZT膜が得られるN液を開発しました。
ターンキーソリューションの提供
ゾルゲル液によるPZT成膜は、スピンコートや加熱条件などの影響が大きく、お客様での条件確立に非常に長い時間と労力を要しました。
そこで三菱マテリアルでは装置メーカーと共同し、装置とゾルゲル液とを組み合わせたターンキーソリューション（TKS）の確立を目指しております。これによりお客様では長い開発期間を必要とせずにPZT膜の量産が可能になります。
その他のゾルゲル液
PZTの他、BST、SBT、BLT などの強誘電体材料、またLSCOなどの酸化物薄膜材料も対応可能です。詳細はご相談ください。