バンプ形成用低α線ハンダ
  1. 超低アルファ線対応可能。　 0.002cph/cm2
  2. 鉛フリーには最高レベルのSULA グレードを提供。
    アルファ線量が測定下限レベル、経時変化上昇なし。
  3. 高鉛、共晶、鉛フリー。
  4. 長時間連続使用可能 (メッキ液、ペースト)。
  5. 低ボイド。
代表的なUBM膜構造
名　　称 プロセス 組　成
LA/ULA/SULA リキッド、ハンダアノード メッキ法 高鉛, 共晶, 鉛フリー
LA/ULA/SULA ペースト 印刷法 高鉛, 共晶, 鉛フリー
LA/ULA インゴット 蒸着法 鉛, 錫

メッキ法
ULAリキッド
印刷法
ULAペースト
メッキ後
Pb/Sn=95/5　Conc.60g/L		 印刷後
Mask 0.10mmt,Opening φ0.22mm
α線量経時変化の例


Aging time(Days)
ULAペースト（共晶）
Aging time(Days)
ULAリキッド（高鉛）

Aging time(Days)
ULA/SULAペースト（鉛フリー）


UBM用スパッタリングターゲット
  1. 微細結晶粒および低パーティクル
  2. 高純度


　　　　　
　

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