光記録膜用ターゲット
光記録材料、特に相変化材料には、いわゆるカルコゲン系材料を主成分とした合金が使用されます。
このカルコゲン系材料や合金として使用される材料は全て当社もしくは関係会社で精製・製造されています。当社は原鉱石から高純度原料に至る一貫した品質管理体制により、光記録用ターゲットのNo.1サプライヤーです。
相変化記録は光ディスク以外にも、その用途は拡大しています。
当社の長年に亘る実績は、新たな組成系の開発に、これからも貢献します。

基本特性

1. 組成公差 : ±0.5at %

2. 不純物実績値(TeGeSbの一例)
元素 Ag Cu Bi Fe Si Mg O
定量値
(PPm)
<1 <1 <1 1 <5 <1 240


3. 相対密度 : max 95〜100%

4. 最大寸法 : max 〜φ300mm

TeGeSb系液相投影図(by Bor)
組織写真
 TeGeSb系ターゲットの組織比較

他社品

当社低酸素・微細組織品
 InAgSbTe系ターゲットの高密度・微細組織品

当社従来品

当社高密度・微細組織品

シュミレーションによる記録膜材料の評価・探索

当社は材料メーカーとして、お客様の求めるディスク特性に最適な膜組成を提案することにより、より効率的なディスク開発をサポートする体制を整えております。その一つとして、記録膜の光学特性と膜構造により決定されるディスクの特性を、記録膜の結晶化核生成頻度及び結晶成長速度の温度依存性を計算することにより評価するシミュレーション開発を実施しています。そうして得られた最適ディスク構造に要求される記録膜組成を提案することにより、材料メーカーとしてのより理想的な機能を果たしていきます。
 
 
結晶化核生成速度と結晶成長速度の温度依存性シミュレーションの一例
レーザー照射中の反射率変化シミュレーションの一例


     


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