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导电性Nb2O5靶材

可实现DC溅镀

在采用金属靶材的反应性溅镀形成氧化物膜的过程中,膜的光学特性与成膜速度很难控制。
三菱综合材料通过降低Nb2O5的电阻,可利用DC溅镀形成膜,实现稳定的光学特性与成膜速度。

三菱综合材料的导电性Nb2O5靶材的特点

  • 电阻低,电阻偏差小
  • 可实现异常放电少,稳定的DC溅镀
  • 高纯度、高密度且均质的组织

根据溅镀条件,可从光学调整用的高透过率膜到让金属配线失去光泽的高吸收率膜的大范围内成膜。

TiO2靶材也是金属氧化物的一个产品系列。

TiO2靶材

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