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導電性Nb2O5ターゲット

DCスパッタリングを可能に

金属ターゲットを用いた反応性スパッタリングによる酸化物膜の成膜では、膜の光学特性と成膜速度のコントロールが困難です。
三菱マテリアルではNb2O5を低抵抗化することにより、DCスパッタリングによる成膜を可能とし、安定した光学特性と成膜速度を実現しました。

三菱マテリアルの導電性Nb2O5ターゲットの特長

  • 低電気抵抗かつ抵抗のばらつきが小さい
  • 異常放電の少ない安定したDCスパッタリングが可能
  • 高純度・高密度かつ均質な組織

スパッタリング条件により、光学調整用の高透過率の膜から、金属配線の光沢を目立たなくさせる高吸収率の膜まで、幅広く成膜することが可能です。

金属酸化物として、TiO2ターゲットもラインナップしています。

TiO2ターゲット

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